| PECVD設備 |
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價格： 元(人民幣) | 產地：青島 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：青島 | |
| 上架時間：2024-10-10 08:44:20 | 瀏覽量：15 | |
青島福潤德微電子設備有限公司
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| 經營模式：生產加工 | 公司類型：私營有限責任公司 | |
| 所屬行業(yè)：電子產品制造設備 | 主要客戶：企業(yè) | |
 在線咨詢  |
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| 聯系人:張琪 () | 手機:13606426381 |
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| 郵箱:510081121@163.com | 地址:青島市 |
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滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。
CVD系統(tǒng)性能特點：
硅片規(guī)格：2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片) 溫度范圍：300～1100℃ 恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1000mm(±1℃／24h) 淀積薄膜均勻性： 片內±5％ 片間±5％ 批間±5％ 沉積膜厚度：600～15000A 系統(tǒng)極限真空度：優(yōu)于1Pa 工作壓力范圍：20～133Pa閉環(huán)控制 控制方式：工業(yè)微機 送料裝置：懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng) 淀積薄膜分類：Si 3N4、Si02、PSG、Pply-Si膜 真空泵：羅茨泵、機械泵 工藝氣路：5路氣／管。VCR接口 40KFIz脈寬調制AE高頻電源 裝片量：200片／舟 |
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