等離子清洗機 德國原裝進口 DIENER 清洗/活化/蝕刻/涂層 ZEPTO 2.6L
清洗： 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉(zhuǎn)化為氣相被排出。
如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層。
活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。
如：PDMS鍵合，粘接前的預(yù)處理，涂裝前的預(yù)處理，印刷前的預(yù)處理。
蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉(zhuǎn)變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數(shù)可使材料表面蝕刻出一定的形狀。
如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。
涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應(yīng)，前驅(qū)單體導(dǎo)入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應(yīng)，形成聚合物層。
如：疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層。
ZEPTO具體參數(shù)如下：
配置可選：主要技術(shù)參數(shù)：
1. 手動控制
2. *根據(jù)工藝要求不同，可設(shè)定功率、壓強、氣體流量等參數(shù)
3. 雙路工作氣體，浮球氣體流量計
4. 反應(yīng)艙為高硼硅玻璃，?105 mm*L300mm，容積為2.6L
5. 發(fā)生器頻率40KHz,功率0~100W無級可調(diào)
6. 電極材質(zhì)為鋁/不銹鋼
7. 運行模式為手動
8. 真空泵的排氣能力為4m3/Hour，國產(chǎn)飛越真空泵，配有強制進氣閥
9. 配有壓力傳感器，顯示腔體內(nèi)壓力大小
10. 鈉鈣玻璃托盤：寬85mm，長260mm，厚5mm
11. 外尺寸：W425*D450*H185mm
12. 電源電壓：單相AC230V 16A
可根據(jù)用戶要求更改配置，可選擇大容積的腔體。
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