| 二氧化硅靶 |
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價格：50元 元(人民幣) | 產地：北京 |
| 最少起訂量：1公斤 | 發貨地：北京 | |
| 上架時間：2017-10-20 11:43:21 | 瀏覽量：428 | |
北京石久高研金屬材料有限公司
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| 經營模式：生產加工 | 公司類型：私營有限責任公司 | |
| 所屬行業：硅鋼 | 主要客戶：鍍膜廠，研究所，學校 | |
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詳細說明
二氧化硅，高純二氧化硅顆粒，二氧化硅靶，二氧化硅蒸發材料，鍍膜專用二氧化硅?
化學符號：SiO2? 沸 ? ?點：2230℃ 純 ? ?度：4N 規 ? ?格：1-4mm,顆粒，靶材 分 子 量：60.08?外 ? ?觀：白色? 熔 ? ?點：1700℃? 密 ? ?度：2.2-2.7g/cm3?? 在10-4Torr真空下蒸發溫度為：1025℃? 透 明 區/nm：200-8000? 相對介電常數：3-4? 擊穿電壓/V？cm-1：106? 厚 ? ?度μm：0.03-0.3? 沉積技術：反應濺射? 折 射 率(波長/nm)：1.46(500)? ? ? ? ? ? 1.445(1600)? 線膨脹系數/℃-1:5.5×10-7? 蒸發方式：電子束? 性 ? ?能： 可用鉭舟加熱蒸發，也可用三氧化二鋁坩堝加熱蒸發，但由電阻加熱蒸發會產生分解，由電子束加熱蒸發效果很好；不溶于水和酸，但溶于氫氟酸；其微粒能與熔融堿起作用；? 應 ? ?用： 二氧化硅用途廣泛，主要用于冷光膜、防反膜、多層膜、濾光片、絕緣膜、眼鏡膜、紫外膜等。? |
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