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工作原理概述：通過夾具真空吸附固定磨拋樣品，利用夾具自轉和磨拋盤的相對運動，在不同磨拋介質的作用下，將樣品去除到指定的厚度并實現光滑的表面粗糙度，進而達到高度平坦化的效果。
GNAD 系列精密研磨拋光機是北京艾姆希半導體科技有限公司專門針對高質量半導體，光電等材料應用研制的精密研磨拋光設備。設備主要適用材料包括： 硅，碳化硅，藍寶石，磷化銦，砷化鎵，碲鋅鎘，碲鎘汞，光纖等多 種材料。
主要功能
GNAD 系列精密研磨拋光機包括主機，觸摸屏控制系統，樣品固定的系統，真空系統，填料系統，研磨拋光組件等。
GNAD 系列精密研磨拋光機，主機及所有的零備件均采用高防腐蝕材料，整機防腐，適用于多種半導體材料的化學機械研磨拋光。
夾具可在線監測樣品的去除量，精度可實現 1um。壓力的范圍可實現 0-3.5 公斤。并可根據用戶工藝要求定制各種角度附件等非標夾 具附件，實現對非標形狀樣品的拋光及角度拋光。
真空系統通過抽真空的方式將樣品直接吸附在樣品固定裝置底面。根據不同工藝要求，真空系統可以直接吸附樣品或者直接吸附貼 有樣品的石英襯底片。