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9B雙面研磨機(jī)/雙面拋光機(jī)適用范圍
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? 藍(lán)寶石基片、光學(xué)光電子材料、觸屏玻璃、蓋板玻璃、硅片、陶瓷片等非金屬的雙面研磨拋光 .不銹鋼.鋁合金，鉬片等金屬材質(zhì)雙面研磨拋光。
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9b雙面研磨機(jī)/雙面拋光機(jī)性能特點(diǎn)
? 1、采用交流變頻電機(jī)驅(qū)動，軟啟動、軟停止，平穩(wěn)可靠。

? 2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn)，太陽輪下有墊片可調(diào)整位置，有效利用了齒圈和太陽輪。

? 3、上盤單獨(dú)設(shè)置了緩降氣缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且還可獨(dú)立進(jìn)行壓力控制。

? 4、通過使用電子預(yù)置計(jì)數(shù)器，研磨的圈數(shù)、要求可準(zhǔn)確控制。

? 5、可以采用修盤方式修整研磨盤。


9B雙面研磨機(jī)/雙面拋光機(jī)規(guī)格參數(shù)
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1、研磨盤直徑(MM):φ622×φ218×25(上盤)φ622×φ218×30(下盤)

? 2、大理想研磨直徑(MM)：φ180

? 3、加工件平面度：0.2μ(φ10)

? 4、游輪參數(shù)：英制DP12，Z=108

? 5、游輪數(shù)量：5個

? 6、小研磨厚度：0.1mm(φ10mm)

? 7、主機(jī)功率：3.7KW(研磨)5.5KW(拋光)

? 8、下研磨盤轉(zhuǎn)速(rpm): 0~60rpm

? 9、砂泵功率：120W

? 10、流砂形式：循環(huán)或點(diǎn)滴

? 11、設(shè)備外形尺寸(MM)：單電機(jī) 1350X950X2200MM 拋光機(jī) 1500X1000X2200

? 12、重量(KG) 1980kg

雙面拋光機(jī)研磨機(jī)用途和特點(diǎn)

1、本機(jī)主要用于光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石、硅片、陶瓷片、石英晶體、計(jì)算機(jī)磁盤基片及其它金屬、非金屬等硬脆材料的雙面拋光加工。

2、該設(shè)備采用兩電機(jī)聯(lián)合拖動方式，上拋光盤、下拋光盤及內(nèi)齒圈由一個主電機(jī)變頻調(diào)速拖動；太陽輪由一個副電機(jī)單獨(dú)變頻調(diào)速拖動。

3、該設(shè)備采用可編程控制器(PLC)控制。可編程人機(jī)界面終端(PT)顯示并設(shè)定（通過觸摸屏）各項(xiàng)工作參數(shù)（時間、速度）及工作狀態(tài)。并可根據(jù)用戶工藝需要變更規(guī)劃控制程序及操控畫面。

4、該設(shè)備拋光過程中的壓力控制精密減壓閥控制，選用荷重傳感器時時檢測工件受力，并將信號反饋給控制單元構(gòu)成壓力的閉環(huán)控制，壓力控制精確穩(wěn)定。

5、該設(shè)備下拋光盤可通過升降氣缸進(jìn)行上下移動，方便取方片及變換游輪嚙合位置。

6、該設(shè)備為了滿足某些特殊用戶的要求，該機(jī)的太陽輪既可正轉(zhuǎn)運(yùn)行，也可反轉(zhuǎn)運(yùn)行（相對于齒圈和下拋光盤）。

7、該設(shè)備的主要外購件采用進(jìn)口件（例如：日本OMRON公司的變頻器、臺達(dá)PLC及人機(jī)界面等），保證了各項(xiàng)性能的高指標(biāo)。

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8、該設(shè)備上下盤傳動采用斜齒輪傳動，保證了設(shè)備的平穩(wěn)運(yùn)行。

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如何使用雙面研磨機(jī)研磨平行度要求很高的工件

相對于單面研磨機(jī)來說，雙面研磨機(jī)

衡量他設(shè)備精度高低的一個特有數(shù)值是平行度。也就是說除了平面度，粗超度以外，平行度也是雙面研磨機(jī)設(shè)備質(zhì)量高低的一個重要指標(biāo)。在單面研磨機(jī)上對于平面度，粗超度的講解已經(jīng)很詳細(xì)了，但是平行度確實(shí)很少提到，因?yàn)槭褂脝蚊嫜心C(jī)研磨的工件對于平行度都